三星宣布其基于EUV(极端紫外线)光刻工艺的第一百万个10nm级D1X DDR4 RAM模块已被运输,因为公司计划在明年的EUV线路上移动其全部生产。预计这些模块将在PC,移动和企业服务器产品类别中找到他们的客户。
该开发职位三星作为第一个在DRAM生产中使用EUV过程的半导体制造商,克服了以前的缩放挑战。三星计划于今年晚些时候在大型DRAM生产中纳入EUV过程,也准备在韩国的Pyeongtaek工厂开设第二个半导体产品线,以考虑对其新的基于EUV的DRAM解决方案的需求。
三星宣布其基于EUV(极端紫外线)光刻工艺的第一百万个10nm级D1X DDR4 RAM模块已被运输,因为公司计划在明年的EUV线路上移动其全部生产。预计这些模块将在PC,移动和企业服务器产品类别中找到他们的客户。
该开发职位三星作为第一个在DRAM生产中使用EUV过程的半导体制造商,克服了以前的缩放挑战。三星计划于今年晚些时候在大型DRAM生产中纳入EUV过程,也准备在韩国的Pyeongtaek工厂开设第二个半导体产品线,以考虑对其新的基于EUV的DRAM解决方案的需求。